一．EDI超純水設備簡介

??EDI超純水處理設備即電去離子系統，電滲析膜分離技術與離子交換技術有機地結合起來的一種新的制備超純水（高純水）的技術，它利用電滲析過程中的極化現象對填充在淡水室中的離子交換樹脂進行電化學再生。該設備主要是在直流電場的作用下，通過隔板的水中電介質離子發生定向移動，利用交換膜對離子的選擇透過作用來對水質進行提純。

二．EDI的基本工作原理

??EDI是一種將離子交換技術、離子交換膜技術和離子電遷移技術（電滲析技術）相結合的純水制造技術。該技術利用離子交換能深度脫鹽來克服電滲析極化而脫鹽不徹底，又利用電滲析極化而發生水電離產生H+和OH-，這些離子對離子交換樹脂進行連續再生，以使離子交換樹脂保持最佳狀態。

??EDI膜堆主要由交替排列的陽離子交換膜、濃水室、陰離子交換膜、淡水室和正、負電極組成。離子交換樹脂充夾在陰陽離子交換膜之間形成單個處理單元，并構成淡水室，單元與單元之間用網狀物隔開，形成濃水室。在直流電場的作用下，淡水室中離子交換樹脂中的陽離子和陰離子沿樹脂和膜構成的通道分別向負極和正極方向遷移，陽離子透過陽離子交換膜，陰離子透過陰離子交換膜，分別進入濃水室形成濃水。同時EDI進水中的陽離子和陰離子跟離子交換樹脂中的氫離子和氫氧根離子交換，形成超純水（高純水）。超極限電流使水電解產生的大量氫離子和氫氧根離子對離子交換樹脂進行連續的再生。傳統的離子交換，離子交換樹脂飽和后需要化學間歇再生。而EDI膜堆中的樹脂通過水的電解連續再生，工作是連續的，不需要酸堿化學再生。

??EDI裝置將給水分成三股獨立的水流：純水、濃水、和極水。純水（90%-95%）為最終得到水，濃水（5%-10%）可以再循環處理，極水（1%）排放掉。

三．EDI裝置的特點

??EDI裝置不需要化學再生，可連續運行，進而不需要傳統水處理工藝的混合離子交換設備再生所需的酸堿液，以及再生所排放的廢水。其主要特點如下：

（1）連續運行，產品水水質穩定

（2）容易實現全自動控制

（3）無須用酸堿再生

（4）不會因再生而停機，節省了再生用水及再生污水處理設施

（5）產水率高（可達95%）。

EDI裝置屬于精處理水系統，一般多與反滲透（RO）配合使用，組成預處理、反滲透、EDI裝置的超純水處理系統，取代了傳統水處理工藝的混合離子交換設備。EDI裝置進水要求為電阻率為0.025-0.5MΩ·cm，反滲透裝置完全可以滿足要求。EDI裝置可生產電阻率高達15MΩ·cm以上的超純水。

??對于高純水系統，無論從產水質量、性能和操作等方面考慮，還是從運行費用和環保等方面考慮，反滲透+EDI工藝都是一個理想的選擇。

四．EDI設備各種技術工藝的優缺點

目前，成套EDI超純水設備制備超純水技術大約有三種，三種工藝各有各的優點，也各有各的缺點，第一種是傳統的利用離子置換樹脂制備超純水的工藝，這種工藝優點較明顯，設備運行初期的資金投入少，并且設備體積較小，但樹脂工作時間長了需要再生，在再生階段會造成大量的酸堿浪費以及污染，所以比較不環保。

現如今，超純水系統工藝主要有三大類，其他的工藝基本上都是在這三大類的基礎上進行不同結合搭配衍生出來的。現在將這三種工藝的優缺點列于此。

1、EDI電子專用超純水設備采用的第一種工藝主要使用離子交換樹脂，優點顯示在投入資金少，占用的地方不是很大，但缺點也非常明顯，必須經常進行再生，對環境有一定的破壞。

2、第二種工藝使用反滲透技術作為預處理裝置技術，這個工藝缺點比上一種工藝還要嚴重，初期的投入資金比上一種高出很多，唯一的優點就是EDI電子專用超純水設備再生時間間隔相對要長，對環境同樣有一定污染性。

3、、第三種工藝同樣是采用反滲透作裝置作為預處理設備，第三種方法這是現如今制取超純水最經濟、最環保用來制取超純水工藝，不必進行設備再生處理，并且周圍環境基本無污染。但是其缺點在于資金投入方面相對以上兩種方式還是過于高。

五．EDI設備的污染判斷及清洗方法

雖然EDI膜塊的進水條件在很大的程度上減少了膜塊內部阻塞的機會，但是隨著設備運行時間的延展，EDI膜塊內部水道還是有可能產生阻塞，這主要是EDI進水中含有較多的溶質，在濃水室中形成鹽的沉淀。如果進水中含有大量的鈣鎂離子（硬度超過0.8ppm）、CO2和較高的 PH 值，將會加快沉淀的速度。遇到這種情況，我們可以通過化學清洗的方法對EDI膜塊進行清洗，使之恢復到原來的技術特性。

通常判斷 EDI 膜塊被污染堵塞可以從以下幾個方面進行評估判定：

1、在進水溫度、流量不變的情況下，進水側與產水側的壓差比原始數據升高 45%。

2、在進水溫度、流量不變的情況下，濃水進水側與濃水排水側的壓差比原始數據升高45%。

3、在進水溫度、流量及電導率不變的情況下，產水水質（電阻率）明顯下降。

4、在進水溫度、流量不變的情況下，濃水排水流量下降35%。

膜塊堵塞的原因主要有下面幾種形式：

1、顆粒/膠體污堵

2、無機物污堵

3、有機物污堵

4、微生物污堵

EDI 清洗注意：在清洗或消毒之前請先選擇合適的化學藥劑并熟悉安全操作規程，切不可在組件電源沒有切斷的狀態下進行化學清洗。